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>亿光再控诉日亚化侵权 专利战乘胜追击
亿光再控诉日亚化侵权 专利战乘胜追击
亿光再控诉日亚化侵权 专利战乘胜追击
亿光电子工业股份有限公司之中国大陆子公司 (以下统称「亿光」) 于2017年9月28日向深圳中级人民法院提出专利侵权诉讼，控告深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵害亿光覆晶(flip-chip)专利技术，并要求法院针对侵权产品下达禁制令以及损害赔偿。中国专利复审委员会已确认该专利有效，驳回日亚化的专利无效请求。
亿光覆晶专利布局广泛涵盖美国、中国大陆、日本、欧洲、韩国及中国台湾省等所有重要市场，且大量应用于车载、背光、照明等用途。
回应日亚化10月16日于其网站发布资讯稿，亿光强调其拥有的COB专利仍为有效，亿光可继续主张其权利。关于东京地方法院判决乙事，亿光表示尊重，然该判决并非最终审定，双方均可上诉。
亿光重申尊重智慧财产权之一贯立场，全力捍卫客户及股东权益，对于侵权行为必采取法律行动绝不容怠。
(文章来源：中国照明网，侵删)
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